1. 半導体用酸化物スパッタリングターゲット | KOBELCO 神戸製鋼
半導体用酸化物スパッタリングターゲット 前工程 IGZOよりも高電子移動度の酸化物半導体 コベルコ科研ターゲット事業本部から、Φ300mm
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/target.html
まえがき ＝ターゲット材料とは,スパッタリング法にて 薄膜を形成する際の原料となる材料である。ターゲット 材料事業は,㈱コベルコ科研において 1993 年より展開し
www.kobelco.co.jp/r-d/technology-review/dumm/__icsFiles/afieldfile/2025/03/19/210_138-142.pdf
3. 「SEMICON JAPAN 2025」への出展について | KOBELCO 神戸製鋼
低消費電力化に寄与し、Si半導体プロセスに適合する高移動度酸化物半導体スパッタリングターゲット 2 はんだ付着を抑制し検査不良を低減するプローブコーティングサービス LEO事業本部 1
www.kobelco.co.jp/notices/2025/1218636_18560.html
後工程 スパッタリングターゲット フラットパネルディスプレイ用途で多くの実用化実績のある材料です。 前工程 半導体製造装置向け素材 アルミ板
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/
5. 酸エッチング液耐性を備えたフラットパネルディスプレイ用酸化物半導体材料及びスパッタリングターゲット材について プレスリリース | KOBELCO 神戸製鋼
最新の情報と異なる場合がありますのでご了承ください。 酸エッチング液耐性を備えたフラットパネルディスプレイ用酸化物半導体材料及びスパッタリングターゲット材について 2013年3月26日
www.kobelco.co.jp/releases/2013/1188235_13519.html
技術・製品 酸エッチング液耐性を備えたフラットパネルディスプレイ用酸化物半導体材料及びスパッタリングターゲット材について 2013年3月21日 鉄鋼 汚染土壌・地下水浄化用鉄粉「エコメル™」
www.kobelco.co.jp/releases/index_old.html
半導体リードフレーム用素材 半導体用酸化物スパッタリングターゲット グラスライニング（半導体製造装置） 半導体のアルミ板 半導体製造装置向けターボ分子ポンプ用ローター素材 低熱膨張合金、
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/aluminum.html
8. 半導体リードフレーム用素材 | KOBELCO 神戸製鋼
半導体リードフレーム用素材 半導体用酸化物スパッタリングターゲット グラスライニング（半導体製造装置） 半導体のアルミ板 半導体製造装置向けターボ分子ポンプ用ローター素材 低熱膨張合金、
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/copper.html
9. 半導体製造装置向けターボ分子ポンプ用ローター素材 | KOBELCO 神戸製鋼
半導体リードフレーム用素材 半導体用酸化物スパッタリングターゲット グラスライニング（半導体製造装置） 半導体のアルミ板 半導体製造装置向けターボ分子ポンプ用ローター素材 低熱膨張合金、
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/forging.html
10. 水素発生装置(半導体工場向け) | KOBELCO 神戸製鋼
半導体リードフレーム用素材 半導体用酸化物スパッタリングターゲット グラスライニング（半導体製造装置） 半導体のアルミ板 半導体製造装置向けターボ分子ポンプ用ローター素材 低熱膨張合金、
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/hydrogen.html