「ナノトポグラフィ」検索結果
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1. シリコンウェーハ用高精度ナノトポグラフィ測定技術の開発
ウェーハの厚み分布を反映する平坦度に加え,近年 ではナノトポグラフィと呼ばれる指標が注目されてい る。 ナノトポグラフィは半導体製造装置に関する国際規格 /スタンダードであるSEMI M43-1109
www.kobelco.co.jp/r-d/technology-review/dumm/__icsFiles/afieldfile/2025/03/19/247_048-053.pdf
Warpの計測が可能。 LNSWはナノトポグラフィーの計測が可能。 用途 研磨後の高精度平坦度測定、出荷検査 平坦度計 製品一覧 エッジ検査関連装置（エッジ形状、貼り合わせずれ、チッピング）
www.kobelco.co.jp/products/industry/semiconductor/wafer.html
3. 社会の多様なニーズを支える機能性材料とその ソリューション特集の発刊にあたって
半導体分野では,お客様の要求精度はナノメートルオーダに達している。本特集号では,シリコンウエハーのナノトポグラフィ測定への応用について紹介した。
www.kobelco.co.jp/r-d/technology-review/dumm/__icsFiles/afieldfile/2025/03/19/247_001-002.pdf
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