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1. 光ディスク用高耐久性および高反射率Ag-Bi系合金反射 膜の開発
合金薄膜の膜構造,特に膜厚方向の合金元素の分布状態は,X 線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)とラザフォード後方散乱分光法
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2. 高移動度酸化物半導体 a-IGZTO を用いたトップゲート型 薄膜トランジスタの水素プラズマ処理による特性安定性
した。また,X線光電子分光分析から,a-IGZTOが物理的にスパッタリングされていることを示唆するOH基がア
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を,状態解析は X線光電子分光法(ULVAC PHI製Quantera SXM)を 用いて行った。 2. 2 Alメッシュ電極の作製・評価方法
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その一例として,エポキシ接着剤塗布前後におけるアル ミニウム酸化皮膜の電子状態を硬X線光電子分光法(Hard X-ray Photo Electron
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Microscope)のような表面形状をサブミクロンスケールで観察するもの,X線光電子分光法 (XPS: X-ray Photoelectron Spectroscopy)
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g,48時間振盪)した鉄粉のX線光電子分光(X-ray Photoelectron Spectroscopy,以下XPSという)分析結果を 図 7 に示した。これより,鉄とふっ化物がふっ化鉄(FeF
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エッチング液によってKOS-B02薄膜表面がどのよう に変質しているか調べるために,X線光電子分光法 (XPS)を行った。 図 7 は,KOS-B02薄膜のO1sスペクトルの深さ方向 分布を示す。
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